パターン形成方法及びその装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：林敬之助
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996318213
Publication number (International publication number)：1998163201
Application date： Nov. 28, 1996
Publication date： Jun. 19, 1998
Summary：

【要約】【課題】集束イオンビームの性質を利用して、試料表面に任意の位置に任意の形状のパターンを形成する方法及び装置を求める。【解決手段】集束イオンビーム発生部、集束イオンビームを偏向走査するための偏向電極、集束イオンビームを照射する試料を載置するX-Yステージ、試料の集束イオンビーム照射位置表面にガスを局所的に吹き付けるためのガス銃、ガス原料を収容し加熱する機能を備えたガス源、ガス源でガス原料を加熱することにより蒸気化したガスを加熱しながらガス銃に導くための配管と、集束イオンビームを照射することにより発生する二次荷電粒子を検出する二次荷電粒子検出器とから構成されている装置を用い、試料表面にパターンを形成する方法及び装置。

Claim (excerpt)：

液体金属イオン源と引き出されたイオンビームを集束するための集束レンズ系と前記イオンビームを試料上でオン/オフするためのブランキング電極とからなる集束イオンビーム発生部と、前記集束イオンビームを偏向走査するための偏向電極と、前記集束イオンビームが照射される試料を載置し移動可能な試料ステージと、前記試料の集束イオンビーム照射位置表面にガスを局所的に吹き付けるためのガス銃と、前記ガスの原料となるガス原料を収容し加熱する機能を備えたガス源と、前記ガス源で前記ガス原料を加熱することにより蒸気化したガスを前記ガス銃に導くための配管と、前記集束イオンビームを照射することにより発生する二次荷電粒子を検出する二次荷電粒子検出器とからなり、前記配管及び前記ガス銃も加熱しながら、前記集束イオンビームの照射領域またはその近傍に前記蒸気化したガスを吹き付けると同時に、前記試料表面に前記集束イオンビームを所定領域で所定回数繰り返して走査させ照射することにより、前記蒸気化したガスを分解または活性化させ、前記蒸気化したガスを分解させることにより発生した物質または活性化されたガスの性質を用いて前記試料表面を加工することにより、前記試料表面にパターンを形成するパターン形成方法。

IPC (4)：

H01L 21/3205 , C23C 16/48 , G03F 7/20 521 , H01L 21/027

FI (4)：

H01L 21/88 B , C23C 16/48 , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 502 W

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

特開昭62-281349
特開昭63-100746
特開昭62-281349

Show all

Return to Previous Page