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J-GLOBAL ID:200903060532648309

炭素構造体及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 山本 秀樹
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006096815
Publication number (International publication number):2007269545
Application date: Mar. 31, 2006
Publication date: Oct. 18, 2007
Summary:
【課題】 層間距離を黒鉛より広く維持し、He法による密度および嵩密度の高い炭素構造体及びその製造方法を実現する。【解決手段】本発明の炭素構造体は、酸化黒鉛の焼成により共有結合した酸素の一部を取り除き、XRD(X線回析)の回折パターンのピークが19°から26°の範囲に有しているとともに、He法による密度が1.4g/cm3以上、体積固有抵抗値が1Ω・cm以下であることを特徴としている。また、以上の炭素構造体は構成成分が少なくとも炭素および酸素からなり、酸素の割合が約1から25wt%である。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
酸化黒鉛の焼成により共有結合した酸素の一部を取り除いたもので、XRD(X線回析)測定での回折パターンのピークが少なくとも19°から26°の範囲に有しているとともに、He法での測定密度が1.4g/cm3以上、かつ体積固有抵抗値が1Ω・cm以下であることを特徴とする炭素構造体
IPC (1):
C01B 31/04
FI (1):
C01B31/04 101B
F-Term (27):
4G146AA02 ,  4G146AA15 ,  4G146AC07A ,  4G146AC07B ,  4G146AC13A ,  4G146AC16A ,  4G146AC16B ,  4G146AC17A ,  4G146AC17B ,  4G146AC20A ,  4G146AC20B ,  4G146AC22A ,  4G146AC22B ,  4G146AC27A ,  4G146AC27B ,  4G146AD22 ,  4G146AD25 ,  4G146AD32 ,  4G146BA02 ,  4G146BB12 ,  4G146BC02 ,  4G146BC23 ,  4G146BC25 ,  4G146BC32B ,  4G146BC33B ,  4G146BC37A ,  4G146BC37B

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