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J-GLOBAL ID：200903060533972592

フォトレジスト組成物

Inventor： 西 峰雄 ,  宮崎 昭夫
Applicant, Patent owner： 三菱化成株式会社
Agent (1)： 長谷川 一 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991339077
Publication number (International publication number)：1993173325
Application date： Dec. 20, 1991
Publication date： Jul. 13, 1993
Summary：

【要約】【構成】ベース樹脂、感放射線化合物及び溶媒を含有するフォトレジスト組成物において、溶媒として3-エトキンプロピオン酸メチルを用いることを特徴とするフォトレジスト組成物。【効果】本発明のフォトレジスト組成物は溶媒として特定の化合物を用いることにより、塗布性及び耐熱性が良好で、温度変動による塗布膜厚の変動も小さく、従来と同様のプロセス条件にて良好な性感が得られ、実用上極めて有用である。

Claim (excerpt)：

ベース樹脂、感放射線化合物及び溶媒を含有するフォトレジスト組成物において、溶媒として3-エトキシプロピオン酸メチルを用いることを特徴とするフォトレジスト組成物。

IPC (2)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭62-123444
  
• 特開昭63-220139