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J-GLOBAL ID：200903060543202469

廃水の処理方法

Inventor： 塩田 祐介 ,  石井 徹 ,  三井 紀一郎 ,  佐野 邦夫
Applicant, Patent owner： 株式会社日本触媒
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993074659
Publication number (International publication number)：1994277681
Application date： Mar. 31, 1993
Publication date： Oct. 04, 1994
Summary：

【要約】【目的】本発明は、廃水を効率よく処理し、該廃水を浄化する処理法に関するものである。さらに詳しくは、高い化学的酸素要求量(以下CODとも記載する)を有し、かつ重金属類、アルミニウム、リン、ケイ素、カルシウム、マグネシウム等の物質を含有する廃水を浄化する処理方法に関するものである。【構成】廃水を酸素を含有するガスの供給下、140°C〜370°Cの温度および該廃水が液相を保持する圧力下で無触媒湿式酸化処理を行い、ついで気液分離処理し、無触媒湿式酸化処理排ガスを分離し、さらに該湿式酸化処理で生成した固形物を含有した一次処理液を固液分離した後、濾液を140°C〜370°Cの温度および該濾液が液相を保持する圧力下で該濾液を触媒湿式酸化処理をするにおいて、無触媒湿式酸化処理排ガスを触媒湿式酸化工程に供給し、触媒湿式酸化処理を行うことを特徴とする廃水の処理方法である。

Claim (excerpt)：

(1)廃水に酸素を含有するガスの供給下、140°C〜370°Cの温度で該廃水が液相を保持する圧力下に該廃水を、一次処理となる無触媒湿式酸化処理し、(2)次いで気液分離処理により一次処理排ガスを分離し、(3)該一次処理により得られる固形物含有の処理廃水を固液分離処理し、(4)該固液分離処理後の濾液を、140°C〜370°Cの温度および該濾液が液相を保持する圧力下で触媒湿式酸化処理する方法において、一次処理排ガスを触媒湿式酸化工程に供給し、触媒湿式酸化処理することを特徴とする廃水の処理方法。

IPC (6)：

C02F 1/74 101 ,  C02F 1/74 ZAB ,  C02F 1/58 ZAB ,  C02F 1/58 ,  C02F 1/60 ZAB ,  C02F 1/62 ZAB

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭50-004860
  
• 特開昭54-042851
  
• 特開昭53-032866