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J-GLOBAL ID：200903060561373645

エッチング方法

Inventor： 六反 豊弘 ,  阿部 敬浩 ,  山本 直広
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所 ,  日立笠戸エンジニアリング株式会社
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992249586
Publication number (International publication number)：1994104217
Application date： Sep. 18, 1992
Publication date： Apr. 15, 1994
Summary：

【要約】 (修正有)【構成】アルミ合金配線膜に積層化されたキャップメタル膜(TiN膜)5のエッチングにおいて、還元性フッ素化合物ガスとハロゲンガスの混合ガスを使用しているため、キャップメタル膜(TiN膜)5がエッチング終了となり、下地のAl-Si-Cu膜4のエッチングが開始した時間、Al-Si-Cu膜4表面のAlと還元性フッ素化合物(SF6)のF成分で反応(2Al+SF6→2AlF3+2S)してフッ化アルミニウム4′を生成してエッチングをストップすることができる。【効果】前記還元性フッ素化合物ガスとハロゲンガスを混合したガスを用いることで、下成分の作用によりアルミ合金膜のエッチング進行をストップさせ、キップメタル膜とアルミ配線との界面においてサイドエッチングを防止することができる。

Claim (excerpt)：

エッチング用処理ガスとして、還元性フッ素化合物ガスとハロゲンガスを混合したガスを用い、アルミ合金配線膜に積層化されたキャップメタル膜(TiN膜)をエッチング処理することを特徴とするエッチング方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平4-087332
  
• 特開平3-044030
  
• 特開平4-106921