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J-GLOBAL ID：200903060570278574

耐溶出性アニオン吸着膜の製造方法およびその膜

Inventor： 堀 隆博 ,  松田 孝
Applicant, Patent owner： 旭化成工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993189926
Publication number (International publication number)：1995041574
Application date： Jul. 30, 1993
Publication date： Feb. 10, 1995
Summary：

【要約】【目的】 耐溶出性に優れたアニオン吸着膜を提供する。【構成】 三次元網目構造を有し、平均孔径が、0.01〜5μm、空孔率が20〜90%である多孔性基材膜に電離性の放射線を照射し、クロロメチルスチレンおよび架橋剤をグラフト共重合させ、さらに該グラフト共重合膜に4級アミンを導入する。【効果】 半導体産業などにおける超純水製造システムにおいて、特にTOC濃度の低い超純水を提供することが可能になる。

Claim (excerpt)：

多孔膜に電離性の放射線を照射し、該多孔膜にクロロメチルスチレンおよび架橋剤をグラフト共重合させた後に該グラフト共重合膜に4級アミンを導入することを特徴とするアニオン吸着膜の製造方法。

IPC (2)：

C08J 5/22 104 ,  B01J 47/12

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭60-238328
  
• 特開昭60-238328