Pat

J-GLOBAL ID：200903060583978893

ポジ型感放射線性組成物

Inventor： 児玉 邦彦
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001069053
Publication number (International publication number)：2002268209
Application date： Mar. 12, 2001
Publication date： Sep. 18, 2002
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 超微細加工が可能な短波長の露光光源及びポジ型化学増幅レジストを用いたリソグラフィー技術にあって、高感度、高解像力のポジ型感放射線性組成物を提供する。【解決手段】 (A)活性光線の照射により酸を発生する(I)で示される特定の酸発生剤、及び(B)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。

Claim (excerpt)：

(A)活性光線の照射により酸を発生する下記式(I)に示す化合物少なくとも1種、及び(B)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。【化1】式(I)中、R1〜R4は、水素原子、アルキル基、ハロゲン置換アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基、アリール基又はシアノ基を表す。R5及びR6は、水素原子、アルキル基、シアノ基又はアリール基を表す。Y1及びY2は、アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。また、Y1とY2とは結合して、式(1)中のS+とともに、環を形成してもよい。X-は、非求核性アニオンを表す。

IPC (6)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 501 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/42 ,  C08L101/02 ,  H01L 21/027

FI (6)：

G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/004 501 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/42 ,  C08L101/02 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (38)：

2H025AB03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CA48 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB42 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J002BC101 ,  4J002BG051 ,  4J002BG071 ,  4J002BH011 ,  4J002BH021 ,  4J002ED057 ,  4J002EE037 ,  4J002EE047 ,  4J002EN028 ,  4J002ER028 ,  4J002EU028 ,  4J002EU048 ,  4J002EU098 ,  4J002EU128 ,  4J002EU138 ,  4J002EU148 ,  4J002EU238 ,  4J002EV047 ,  4J002EV207 ,  4J002EV217 ,  4J002EV296 ,  4J002FD206 ,  4J002FD207