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J-GLOBAL ID：200903060615252288

露光装置およびデバイス製造方法

Inventor： 小出 博之
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 伊東 哲也 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997250134
Publication number (International publication number)：1999087230
Application date： Sep. 01, 1997
Publication date： Mar. 30, 1999
Summary：

【要約】【課題】 レーザ光路上の酸素による照射光への影響を抑制し、高精度に露光を行い得る露光装置を提供することにある。【構成】 転写用パターンが形成されたマスクのマスクパターンを露光用の照明光により感光体上に転写する露光装置において、該照明光の光路上の酸素による該照明光の吸収が前記感光体上へ照射される照射光へ与える影響を抑制するために、照明光の光量検出手段と照明光の光路上の酸素濃度を検出する酸素濃度検出手段とを具備する照射光制御手段を有することを特徴とする露光装置。

Claim (excerpt)：

転写用パターンが形成されたマスクのマスクパターンを露光用の照明光により感光体上に転写する露光装置において、該照明光の光路上の酸素による該照明光の吸収が前記感光体上へ照射される照射光へ与える影響を抑制するために、該照明光の光量検出手段と前記照明光の光路上の酸素濃度を検出する酸素濃度検出手段とを具備する照射光制御手段を有することを特徴とする露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2)：

H01L 21/30 516 Z ,  G03F 7/20 521