Pat

J-GLOBAL ID：200903060616520049

耐熱性フォトレジスト組成物および感光性基材、並びにネガ型パターン形成方法

Inventor： 前田 雅子 ,  望月 周 ,  石井 亨枝 ,  東 一美
Applicant, Patent owner： 日東電工株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995122282
Publication number (International publication number)：1996314141
Application date： May. 22, 1995
Publication date： Nov. 29, 1996
Summary：

【要約】【目的】 低い照射エネルギーでも充分に感光し、従来のものより優れた残存膜厚率や解像度を得ることができる耐熱性フォトレジスト組成物および感光性基材、並びにネガ型パターン形成方法を提供する。【構成】 フォトレジストの骨格成分としてポリカルボジイミドを用い、これに活性光線の照射によって酸性化合物を誘発する光分解性酸発生剤を配合する。また、この組成物を支持基材の表面に塗設することによって感光性基材とする。さらに、上記組成物からなる感光層を露光、現像することによって未露光部分が溶解するネガ型パターンが得られる。

Claim (excerpt)：

下記一般式〔化1〕にて示されるカルボジイミド単位を分子内に有する樹脂成分と、活性光線の照射によって酸性化合物を誘発しうる化合物を必須成分として含有することを特徴とする耐熱性フォトレジスト組成物。【化1】

IPC (5)：

G03F 7/038 505 ,  C08L 79/00 LQZ ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/38 511 ,  H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/038 505 ,  C08L 79/00 LQZ ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/38 511 ,  H01L 21/30 502 R