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J-GLOBAL ID：200903060626086355

マイクロメカニカルな静電リレー

Inventor： ヘルムート シュラーク ,  ヨアヒム シムカト
Applicant, Patent owner： シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト
Agent (1)： 矢野 敏雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995268714
Publication number (International publication number)：1996227647
Application date： Oct. 17, 1995
Publication date： Sep. 03, 1996
Summary：

【要約】【課題】 可動子ばね舌片において、不所望の横方向の湾曲を回避し、しかも全体的に見た場合、最適な切換特性が得られるように湾曲領域を区分毎に生ぜしめる。【解決手段】 機械的な応力を生ぜしめる層41が可動子ばね舌片で、所望の湾曲方向に対して直交方向に延びる平行な各スリット21によって、ストリップ22に分割されている。

Claim (excerpt)：

マイクロメカニカルな静電リレーであって、(イ)ベース電極層(11)とベースコンタクト片(13)とを支持するベース基板(10)と、該ベース基板(10)上に設けられた可動子基板(1)とが設けられており、該可動子基板には片側で結合された可動子ばね舌片(2)が露出するように加工されており、該可動子ばね舌片が、可動子電極層(5)と、可動子ばね舌片の端部の近くに可動子コンタクト片(7)とを支持しており、(ロ)可動子ばね舌片(2)が少なくとも1つの層(4)を支持しており、該層が、基板材料に対して機械的な応力を生ぜしめて、可動子ばね舌片(2)が静止状態では定常の湾曲によってベース基板(10)から離反する方向に撓んでいて、作業状態では両電極層(5,11)相互間に制御電圧が印加することによってベース基板(10)に密着するようになっており、ベースコンタクト片(13)と可動子コンタクト片(7)とが互いに上下に位置している形式のものにおいて、(ハ)機械的な応力を生ぜしめる層(4;41)が可動子ばね舌片で、所望の湾曲方向に対して直交方向に延びる平行な各スリット(21;23)によって、ストリップ(22)に分割されていることを特徴とする、マイクロメカニカルな静電リレー。

IPC (2)：

H01H 59/00 ,  H01L 21/3065

FI (2)：

H01H 59/00 ,  H01L 21/302 J