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J-GLOBAL ID：200903060628432129

水素吸蔵合金電極の製造方法

Inventor： 伊東 範幸 ,  津幡 英樹
Applicant, Patent owner： 日立マクセル株式会社
Agent (1)： 杉浦 康昭
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000025309
Publication number (International publication number)：2001216958
Application date： Feb. 02, 2000
Publication date： Aug. 10, 2001
Summary：

【要約】【課題】 剥離強度に優れた水素吸蔵合金電極を提供する。【解決手段】 水素吸蔵合金を活物質とする電極用ペ-ストを導電性基材に塗布し、乾燥する水素吸蔵合金電極の製造方法において、前記電極用ペースト中にポリN-ビニルアセトアミドを含有するとともに、前記電極用ぺ-ストの乾燥時に赤外線を照射して乾燥する。

Claim (excerpt)：

水素吸蔵合金を活物質とする電極用ペ-ストを導電性基材に塗布し、乾燥する水素吸蔵合金電極の製造方法において、前記電極用ペースト中にポリN-ビニルアセトアミドを含有するとともに、前記電極用ぺ-ストの乾燥時に赤外線を照射して乾燥する工程を含むことを特徴とする水素吸蔵合金電極の製造方法。

IPC (2)：

H01M 4/26 ,  H01M 4/62

FI (2)：

H01M 4/26 J ,  H01M 4/62 C

F-Term (11)：

5H050AA01 ,  5H050BA14 ,  5H050CA03 ,  5H050CB17 ,  5H050DA03 ,  5H050DA14 ,  5H050EA03 ,  5H050EA23 ,  5H050GA02 ,  5H050GA22 ,  5H050HA00