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J-GLOBAL ID：200903060629640892

X線放射線または極紫外線放射線を発生するための方法および装置

Inventor： ハンス エム.ヘルツ ,  ラルス、マルムクビスト ,  ラルス、リメル ,  マグヌス、ベルグルンド
Applicant, Patent owner： ジェテック、アクチボラグ
Agent (1)： 佐藤 一雄 (外3名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1997538003
Publication number (International publication number)：2000509190
Application date： Apr. 25, 1997
Publication date： Jul. 18, 2000
Summary：

【要約】レーザプラズマ放射によりX線放射線または極紫外線放射線を発生するための方法であって、少なくとも1つのターゲット(17)をチャンバ内で発生させるとともに、少なくとも1つのパルスレーザビーム(3)をチャンバ内でターゲット(17)に集光させる方法を提供する。ターゲットは液体の噴流(17)の形態で発生し、レーザビーム(3)は噴流(17)の空間的に連続した部分に集光される。上記方法に従ってレーザプラズマ放射によりX線放射線または極紫外線放射線を発生するための装置は、少なくとも1つのレーザビーム(3)を発生するための手段と、チャンバと、少なくとも1つのターゲット(17)をチャンバ内で発生するための手段(10)と、レーザビーム(3)をチャンバ内でターゲット(17)に集光させるための手段(13)とを含む。ターゲット発生手段(10)は、液体の噴流(17)を発生する。集光手段(13)は、レーザビーム(3)を噴流(17)の空間的に連続した部分に集光させる。

Claim (excerpt)：

レーザプラズマ放射によりX線放射線または極紫外線放射線を発生するための方法であって、少なくとも1つのターゲット(17)を発生させるとともに、少なくとも1つのパルスレーザビーム(3)を前記ターゲット(17)に集光させる方法において、 前記ターゲットは液体の噴流(17)の形態で発生し、前記レーザビーム(3)は前記噴流(17)の空間的に連続した部分に集光されることを特徴とする方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開平2-267895
  
• 特開昭64-006349