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J-GLOBAL ID:200903060633420520

半導体不良解析システムおよびその解析データの圧縮方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 高橋 明夫 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993044006
Publication number (International publication number):1994275696
Application date: Mar. 04, 1993
Publication date: Sep. 30, 1994
Summary:
【要約】【目的】半導体不良解析システムにおいて、半導体の高集積化に対応し、より測定精度の高い解析を行なう。また、使いやすいユーザインターフェースを提供し、解析を容易にする。さらに、解析データの圧縮を能率的に行なう。【構成】FB解析システム105と検査データ解析システム101とテスタを有し、データ解析のためのLSI設計情報107を持つ。また、表示装置にその不良情報または解析データまたは検査条件をマルチウィンドウを用いて表示する。さらに、解析データのデータ圧縮時に不良ビットの生ずる形態により、その格納形態を異ならしめる。
Claim (excerpt):
半導体の不良解析システムに係り、半導体の不良情報を収集する手段と、半導体の不良情報を検査する手段と、その不良情報のデ-タ解析を行なう手段とを有し、そのデータ解析に用いる半導体の設計情報を有することを特徴とする半導体の不良解析システム。
IPC (2):
H01L 21/66 ,  G11C 29/00 303
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (10)
  • 特開平3-139821
  • 特開平3-139821
  • 特開平3-139821
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