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J-GLOBAL ID:200903060642985815

パーティクルカウント方法及びパーティクルカウンタ

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 蔵合 正博 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001400001
Publication number (International publication number):2003194700
Application date: Dec. 28, 2001
Publication date: Jul. 09, 2003
Summary:
【要約】【課題】 大気圧から減圧雰囲気を経て低真空までの動作圧力範囲で、エアロゾル中の所定の粒径範囲のパーティクルをカウントし、粒径分布を算出し得るパーティクルカウンタを提供すること。【解決手段】 本発明のパーティクルカウンタは、計測に光散乱を用いず、計測対象のエアロゾルに内在するパーティクルに対し荷電を行った後、前記エアロゾルを層流状の非荷電性シースガス流に混合させた後、静電界を印加することで、各々の荷電パーティクルに、粒径に依存した軌道をとらせ、特定の軌道を描くパーティクル数をカウントする手段をとる。これにより、気相プロセス装置内に内在する特に50nm以下のパーティクルを迅速・簡便にその場計測した上、粒径分布を算出することが可能なパーティクルカウンタを構成することができることとなる。
Claim (excerpt):
気相中で物理的あるいは化学的な反応を行うプロセス装置に接続され、前記プロセス装置内のプロセスガスをエアロゾルとして取り込み、内在するパーティクルに対し荷電を行った後、前記エアロゾルを層流状の非荷電性シースガス流に混合させた後、静電界を印加することで、各々の内在パーティクルに、粒径に依存した軌道をとらせ、特定の軌道のパーティクルを抽出し、その数量を計測することで、前記プロセス装置内に浮遊するパーティクルの粒径分布を算出することを特徴とするパーティクルカウント方法。
FI (2):
G01N 15/02 F ,  G01N 15/02 D
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

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