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J-GLOBAL ID：200903060643538871
屈折率分布型光学素子の製造方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
米澤 明 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997260251
Publication number (International publication number)：1999100235
Application date： Sep. 25, 1997
Publication date： Apr. 13, 1999
Summary：
【要約】【課題】【解決手段】 La、Zr、Sn、In、Y、Ge、Zn、Ba、Ca、As、Sr、Ga、Gdから選択される第一の金属成分が媒質中で勾配を持って分布し、第二の金属成分群Nb、Ta、Ti、Bi、Pb、Sb、Zr、Sn、In、Y、Tlから選択される第二の金属成分が、媒質中でのシリカとの金属酸化物換算量での含有比が径方向で略一定である屈折率分布型光学素子を、ゾルゲル法により作製したシリコンアルコキシドを主成分とするゲルを、ゲル中の第一の金属成分を溶出することができ、第二の金属成分群の少なくとも1種を含有する処理液に浸漬することによって、金属成分の濃度分布を調整する。
Claim (excerpt)：
La、Zr、Sn、In、Y、Ge、Zn、Ba、Ca、As、Sr、Ga、Gdから選択される第一の金属成分が媒質中で勾配を持って分布し、第二の金属成分群Nb、Ta、Ti、Bi、Pb、Sb、Zr、Sn、In、Y、Tlから選択される第二の金属成分が、媒質中でのシリカとの金属酸化物換算量での含有比が径方向で略一定である屈折率分布型光学素子の製造方法において、ゾルゲル法により作製したシリコンアルコキシドを主成分とするゲルを、ゲル中の第一の金属成分を溶出することができ、第二の金属成分群の少なくとも1種を含有する処理液に浸漬することを特徴とする屈折率分布型光学素子の製造方法。
IPC (4)：
C03C 21/00
, C03B 8/02
, G02B 1/02
, G02B 3/00
C03C 21/00 C
, C03B 8/02
, G02B 1/02
, G02B 3/00 B
