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J-GLOBAL ID：200903060667719923

クリーンルームシステム

Inventor： 井上 正憲 ,  吉田 隆紀 ,  五味 弘 ,  稲葉 仁
Applicant, Patent owner： 高砂熱学工業株式会社
Agent (1)： 金本 哲男 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994254846
Publication number (International publication number)：1996089747
Application date： Sep. 21, 1994
Publication date： Apr. 09, 1996
Summary：

【要約】【目的】 ガス状不純物も除去できるクリーンルームを提供する。【構成】 外気を高性能フィルタを介してクリーンルーム内に導入すると共に、該クリーンルーム内を経た還気を再び高性能フィルタを介してクリーンルーム内に導入するように構成したクリーンルームシステムにおいて、外気や還気中に含まれるガス状不純物を除去するためのガス状不純物除去手段を設ける。

Claim (excerpt)：

外気を高性能フィルタを介してクリーンルーム内に導入すると共に、該クリーンルーム内を経た還気を再び高性能フィルタを介してクリーンルーム内に導入するように構成したものにおいて、外気及び/または還気中に含まれるガス状不純物を除去するためのガス状不純物除去手段を設けたことを特徴とするクリーンルームシステム。

IPC (4)：

B01D 53/34 ,  B01D 53/81 ,  B01D 46/52 ,  F24F 7/06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特開平4-334519
  
• 特開平4-113141
  
• アニリン誘導体及び製法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-319421   Applicant：日産化学工業株式会社
• 特開平4-103937
  
• 特開平2-037243