Pat

J-GLOBAL ID：200903060683556414

光重合性組成物

Inventor： 小川 哲夫 ,  瀬古 健治 ,  槙 哲 ,  岩沢 直純
Applicant, Patent owner： 関西ペイント株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991315406
Publication number (International publication number)：1993127378
Application date： Nov. 01, 1991
Publication date： May. 25, 1993
Summary：

【要約】【目的】 基材に対する付着性、耐熱性、耐薬品性、耐衝撃性およびハンダメッキ性に優れたレジスト膜を形成することができ、特にソルダレジストとして好適な光重合性組成物を得る。【構成】 (a)樹脂1kg中に0.3〜10モルの重合性不飽和基及び0.1〜3モルの特定の非プロトン型オニウム塩含有基を有する芳香族エポキシ樹脂誘導体、(b)1分子中に特定のポリシロキサン鎖を有するポリシロキサンであって、該ポリシロキサン1kg中に0.01〜5モルの特定の非プロトン型オニウム塩含有基を有するポリシロキサンおよび(c)光重合開始剤を必須成分とする光重合性組成物および該光重合性組成物からの硬化塗膜の形成方法。

Claim (excerpt)：

(a)樹脂1kg中に0.3〜10モルの重合性不飽和基及び0.1〜3モルの下記式[1]【化1】[式中R1 は、水酸基、アルコキシ基、エステル基もしくはハロゲン原子が置換していてもよい炭素数1〜8の炭化水素基又は水素原子を示す。【化2】ここでZは窒素原子又はリン原子を、Yは硫黄原子を示す。R2 、R3 及びR4 は、同一又は異なって、炭素数1〜14の有機基を示す。またこれらR2 及びR3 又はR2 、R3 及びR4 は一緒になって、これらが結合している窒素原子、リン原子もしくは硫黄原子と共に複素環基を形成してもよい。]で表わされる非プロトン型オニウム塩含有基を有する芳香族エポキシ樹脂誘導体、(b)1分子中に下記式[2]【化3】[式中、R5 およびR6 はそれぞれ同一又は異なって、アルコキシ基、エステル基もしくはハロゲン原子が置換していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示し、nは1〜200の整数を示す。]で表わされるポリシロキサン鎖を有するポリシロキサンであって、かつ前記式[1]で表わされる非プロトン型オニウム塩含有基を該ポリシロキサン1kg中に0.01〜5モル含有するポリシロキサンおよび(c)光重合開始剤を必須成分とする光重合性組成物。

IPC (7)：

G03F 7/027 515 ,  C08F299/02 MRV ,  C08F299/08 MRY ,  C08L 83/04 LRV ,  G03F 7/075 511 ,  H01L 21/027 ,  H05K 3/06