プラズマディスプレイパネルの障壁形成方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：土井育郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993206962
Publication number (International publication number)：1995045193
Application date： Jul. 30, 1993
Publication date： Feb. 14, 1995
Summary：

【要約】【目的】端部付近に欠陥を生じることなくサブトラクティブ加工により所望のラインパターンの障壁を形成する。【構成】ライン状マスク4aにおけるライン端部の外側に所定間隔dを置いて耐サブトラクティブ性を有する保護用マスク4bを設けた状態でサブトラクティブ加工を行い、ガラスペースト層3の不要部分を除去する。保護用マスク4bがサブトラクティブ加工時における気流の流れを堰き止めるので、ライン状マスク4aの端部下側に流れる気流を減少させ、この部分にあるガラスペースト層3の過大な研削が防止される。ライン端部付近に欠陥を生じることなく障壁を形成できる。

Claim (excerpt)：

ガラス基板上に障壁用のガラスペーストを所定の厚さで塗布して乾燥させることでガラスペースト層を形成し、その上に耐サブトラクティブ性を有するライン状マスクを所定ピッチで形成した後、該ライン状マスクを介してのサブトラクティブ加工によりガラスペースト層の不要部分を除去する工程を含むプラズマディスプレイパネルの障壁形成方法において、前記ライン状マスクにおけるライン端部の外側に所定間隔を置いて耐サブトラクティブ性を有する保護用マスクを設けた状態でサブトラクティブ加工を行うことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの障壁形成方法。

IPC (2)：

H01J 9/24 , H01J 17/04

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

プラズマデイスプレイ基板の厚膜パターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-205583 Applicant：大日本印刷株式会社
特開平4-282531
特開平2-301934

Show all

Return to Previous Page