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J-GLOBAL ID:200903060706198308

ポリスルホン系樹脂半透膜の処理方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993298075
Publication number (International publication number):1994339620
Application date: Oct. 15, 1986
Publication date: Dec. 13, 1994
Summary:
【要約】【構成】ポリスルホン系樹脂と親水性高分子を混和溶解した溶液に該ポリスルホン系樹脂に対して非溶媒もしくは膨潤剤なる添加剤を加えた系を製膜原液として製造したポリスルホン系樹脂半透膜に,放射線処理を施すことにより、該親水性高分子を架橋することを特徴とするポリスルホン系樹脂半透膜の処理方法。【効果】本発明の処理を行なえば、ブレンドした親水性高分子の溶出がなく、透水性の極めて高い半透膜を得ることができる。さらに、常圧で水に浸漬するだけで透水性能を回復するその水濡れ性の良さから完全ドライ膜としての用途に容易に展開できる。また、この効果はほぼ永久的に持続される。
Claim (excerpt):
ポリスルホン系樹脂と親水性高分子を混和溶解した溶液に該ポリスルホン系樹脂に対して非溶媒もしくは膨潤剤なる添加剤を加えた系を製膜原液として製造したポリスルホン系樹脂半透膜に,放射線処理を施すことにより、該親水性高分子を架橋することを特徴とするポリスルホン系樹脂半透膜の処理方法。
IPC (3):
B01D 71/68 ,  C08J 7/00 CEZ ,  C08J 7/00 305
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
  • 特開昭61-095037
  • 特開昭58-104940
  • 特開昭54-017978
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