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J-GLOBAL ID：200903060706733866

光学マスク

Inventor： 羽入 勇 ,  浅井 了
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 岡本 啓三
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992241796
Publication number (International publication number)：1994095354
Application date： Sep. 10, 1992
Publication date： Apr. 08, 1994
Summary：

【要約】【目的】透過光に位相差を与える位相シフタを有し、半導体装置等の製造の際に使用される投影露光装置用の光学マスクに関し、位相シフトを用いる場合に、露光マージンを向上すること。【構成】入射光の位相をシフトしない0°位相シフト透過部5と、 前記入射光の位相を 180°シフトする 180°位相シフト透過部6と、 0°〜 180°の間の位相で前記入射光をシフトさせる中間位相シフト透過部7と、前記中間位相シフト透過部7による位相シフトに対して 180°反転した位相で前記入射光を位相シフトさせる反転中間位相シフト透過部8とを含む。

Claim (excerpt)：

入射光の位相をシフトしない0°位相シフト透過部(5)と、前記入射光の位相を 180°シフトする 180°位相シフト透過部(6)と、0°〜 180°の間の位相で前記入射光をシフトさせる中間位相シフト透過部(7)と、前記中間位相シフト透過部(7)による位相シフトに対して 180°反転した位相で前記入射光を位相シフトさせる反転中間位相シフト透過部(8)とを有することを特徴とする光学マスク。

IPC (2)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027