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J-GLOBAL ID：200903060728362853
マスクの製造方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
京本 直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992154865
Publication number (International publication number)：1993347242
Application date： Jun. 15, 1992
Publication date： Dec. 27, 1993
Summary：
【要約】【目的】荷電ビーム露光を行ない、ガラス基板上の金属膜にパターンを形成する際、モレ電荷がガラス基板端部に蓄積されるのを防ぐ。【構成】ガラス基板の端部の、金属膜が無い部分を導電性を持った金属等で覆う導電性カバーを設ける。これにより、ガラス基板端部のモレ電荷蓄積を防ぐ。
Claim (excerpt)：
荷電ビーム露光を行ないガラス基板上の金属膜にパターンを形成するマスクの製造方法において、前記ガラス基板の端面部分を導電性のある金属等でカバーしてパターンを形成する事を特徴とするマスクの製造方法。
IPC (2)：
FI (2)：
H01L 21/30 341 P
, H01L 21/30 301 P
