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J-GLOBAL ID：200903060765744146

遷移金属の汚染除去方法

Inventor： トーマス スティーブン スナイダー ,  グレゴリー フランクリン ボリス ,  ウイリアム リチャード ガス ,  ローラ ジェーン エアーズ
Applicant, Patent owner： ウエスチングハウス・エレクトリック・コーポレイション
Agent (1)： 加藤 紘一郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992355936
Publication number (International publication number)：1995280998
Application date： Dec. 18, 1992
Publication date： Oct. 27, 1995
Summary：

【要約】【目的】 放射性のある副次的廃棄物を殆ど生じさせないで遷移金属を効果的に汚染除去する方法を提供する。【構成】 約5ppmのテクネチウムで汚染されているニッケル(又は他の遷移金属)を、ニッケル及びテクネチウムを酸性水溶液中に溶解させると共に粉末状の黒鉛又は活性炭を酸性水溶液中に投入して、溶解中のテクネチウムを迅速に吸着させる。テクネチウム含有粉末を酸性水溶液から分離し、次に、ニッケルを酸性水溶液から電解採取する。次いで、ニッケルの少なくなった酸性溶液を溶解段階へ再循環させて戻す。

Claim (excerpt)：

遷移金属の汚染除去方法において、テクネチウムで汚染された遷移金属を酸性水溶液中で溶解させると共に黒鉛と活性炭から成る群から選択された粉末を前記酸性水溶液中に投入し、それにより、遷移金属が酸性水溶液中に溶けるとテクネチウムが粉末により吸着されるようにし、テクネチウム含有粉末を酸性水溶液から分離し、溶解した遷移金属を酸性水溶液から電解採取し、次いで、酸性水溶液を溶解工程へ再循環させることを特徴とする汚染除去方法。

IPC (4)：

G21F 9/28 525 ,  G21F 9/28 ZAB ,  G21F 9/28 571 ,  C25C 1/22