Pat
J-GLOBAL ID:200903060768245060

化粧料

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995192530
Publication number (International publication number):1997012431
Application date: Jul. 04, 1995
Publication date: Jan. 14, 1997
Summary:
【要約】【課題】化粧効果持続性に優れた化粧料を提供する。【解決手段】分子内にシラノール基を有するフッ素変性シリコーン樹脂であって、下記の構造を有する化合物を配合した化粧料。平均式 R1 n SiO(4-n)/2(但し、R1 は炭素数1〜8の炭化水素基、フェニル基、水酸基、もしくは一般式-R2 -Rfであって、水酸基および一般式-R2 -Rfを必須とする官能基から任意に選ばれ、R2 は炭素数2〜6の二価のアルキレン基、Rfは炭素数1〜8のパーフルオロアルキル基であり、nは平均数で1.0≦n≦1.8である。)
Claim (excerpt):
分子内にシラノール基を有するフッ素変性シリコーン樹脂であって、下記の構造を有する化合物を配合した化粧料。平均式 R1 n SiO(4-n)/2(但し、R1 は炭素数1〜8の炭化水素基、フェニル基、水酸基、もしくは一般式-R2 -Rfであって、水酸基および一般式-R2 -Rfを必須とする官能基から任意に選ばれ、R2 は炭素数2〜6の二価のアルキレン基、Rfは炭素数1〜8のパーフルオロアルキル基であり、nは平均数で1.0≦n≦1.8である。)
IPC (4):
A61K 7/02 ,  A61K 7/00 ,  A61K 7/48 ,  C08G 77/24 NUH
FI (4):
A61K 7/02 P ,  A61K 7/00 J ,  A61K 7/48 ,  C08G 77/24 NUH
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
  • 特開平4-312511
  • 経皮吸収抑制組成物
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-315984   Applicant:株式会社資生堂
Cited by examiner (1)
  • 特開平4-312511

Return to Previous Page