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J-GLOBAL ID：200903060777500501

光導波路デバイスの製造方法

Inventor： 吉野 隆史 ,  川口 竜生 ,  今枝 美能留 ,  加藤 賢治 ,  小口 貴司
Applicant, Patent owner： 日本碍子株式会社
Agent (1)： 杉村 暁秀 (外9名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996076612
Publication number (International publication number)：1997269430
Application date： Mar. 29, 1996
Publication date： Oct. 14, 1997
Summary：

【要約】【課題】リッジ型光導波路の生産性を向上させ、その光学特性の安定性と形状の安定性とを向上させ、光導波路の表面の加工変質層を防止し、基板の主面に対するリッジ型光導波路の側面の角度を制御すること。【解決手段】基板1と、基板1の主面1a上に突出するリッジ型光導波路3とを備えている光導波路デバイスを製造する。アブレーション加工法によってリッジ型光導波路3を形成する。アブレーション加工の光源5として、波長350nm以下の光を用いることが好ましく、波長150〜300nmの光を用いることが更に好ましく、基板の材質は酸化物単結晶が特に好ましい。

Claim (excerpt)：

基板と、この基板の主面上に突出するリッジ型光導波路とを備えている光導波路デバイスを製造する方法であって、アブレーション加工法によって前記リッジ型光導波路を形成することを特徴とする、光導波路デバイスの製造方法。

IPC (4)：

G02B 6/13 ,  B23K 26/00 ,  G02F 1/035 ,  G02F 1/37

FI (5)：

G02B 6/12 M ,  B23K 26/00 A ,  B23K 26/00 G ,  G02F 1/035 ,  G02F 1/37

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 導波路型光デバイス
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-170223   Applicant：日本電気株式会社
• 特開平4-348328
  
• 光導波路の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-165021   Applicant：株式会社日本製鋼所, 若木守明
• 特開平4-123018