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J-GLOBAL ID：200903060848507146
窒化アルミニウム系セラミックス基板
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
須山 佐一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993214130
Publication number (International publication number)：1994164081
Application date： Sep. 30, 1984
Publication date： Jun. 10, 1994
Summary：
【要約】【目的】 最適な表面状態を有する窒化アルミニウム系セラミックス基板を提供する。【構成】 主として窒化アルミニウムで形成されている銅薄膜の形成されるセラミックス基板であって、表面あらさがRmax ≦2.0 μm である最適な表面状態を有する窒化アルミニウム系セラミックス基板である。
Claim (excerpt)：
主として窒化アルミニウムで形成されている銅薄膜の形成されるセラミックス基板であって、表面あらさがRmax ≦2.0μm であることを特徴とする窒化アルミニウム系セラミックス基板。
IPC (2)：
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