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J-GLOBAL ID：200903060858562447

グラフェンシートの製造方法

Inventor： 徳本 洋志 ,  國奥 秀雄 ,  徳井 博樹 ,  嶋村 清隆
Applicant, Patent owner： 国立大学法人 北海道大学 ,  寿産業株式会社 ,  札幌エレクトロプレイティング工業株式会社
Agent (1)： 鷲田 公一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007233021
Publication number (International publication number)：2009062241
Application date： Sep. 07, 2007
Publication date： Mar. 26, 2009
Summary：

【課題】本発明は、安価かつ簡便なグラフェンシートの製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】炭素微粉末が分散されたVIII族の遷移金属のイオンを含む水溶液を準備し、前記水溶液内で還元反応を誘起させ、前記遷移金属からなる粒子を形成し、前記粒子表面にグラフェンシートを形成し成長させる。これにより、簡便にかつ低いコストでグラフェンシートを製造することができ、安価なグラフェンシートを提供することができる。【選択図】図3

Claim (excerpt)：

炭素微粉末が分散された、VIII族の遷移金属のイオンおよび還元剤を含む水溶液を準備するステップと、 前記水溶液内で還元反応を誘起させ、前記遷移金属からなる粒子を形成するステップと、 前記粒子表面にグラフェンシートを形成するステップと、 を有するグラフェンシートの製造方法。

IPC (1)：

C01B 31/04

FI (2)：

C01B31/04 101B ,  C01B31/04 101A

F-Term (24)：

4G146AA02 ,  4G146AA16 ,  4G146AB01 ,  4G146AB07 ,  4G146AC02B ,  4G146AC16B ,  4G146AC17B ,  4G146BA01 ,  4G146BA34 ,  4G146BB03 ,  4G146BB06 ,  4G146BB09 ,  4G146BB11 ,  4G146BB14 ,  4G146BC02 ,  4G146BC31B ,  4G146BC32A ,  4G146BC32B ,  4G146BC42 ,  4G146BC44 ,  4G146CB01 ,  4G146CB09 ,  4G146CB17 ,  4G146CB40

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 不用タイヤを原料とする乾留式グラファイト製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-259142   Applicant：大伸建設株式会社
• 廃タイヤを原料とした電磁波シールド材料及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-291786   Applicant：札幌エレクトロプレイティング工業株式会社