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J-GLOBAL ID：200903060901089246

溶剤、溶液型キノンジアジド系感光剤、フォトレジスト組成物および洗浄液

Inventor： 白神 昇 ,  大橋 一俊 ,  美濃部 正夫 ,  大井 册雄
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993209739
Publication number (International publication number)：1995064284
Application date： Aug. 24, 1993
Publication date： Mar. 10, 1995
Summary：

【要約】【構成】(1)フッ素原子を含む、アルコール類、エステル類、エーテル類およびフェノール類から選ばれる少なくとも一種を主成分とすることを特徴とするキノンジアジド系化合物の溶剤。(2)(1)記載の溶剤にキノンジアジド系化合物を溶解してなる溶液型キノンジアジド系感光剤。(3)アルカリ可溶性樹脂、感光剤であるキノンジアジド系化合物および(1)記載の溶剤を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。(4)(1)記載の溶剤を主成分とする、キノンジアジド系化合物を含有するレジスト液通液ラインの洗浄液。【効果】(1)キノンジアジド系感光剤の良溶媒であり、感光剤を溶液化し得ることで感光剤の安定性・安全性を高め、工程の管理・制御を容易にする。(2)従来問題となっていたポジ型レジストの微小異物の析出を抑制し得る。(3)感光剤としてキノンジアジド系化合物を用いる各種装置や設備、例えばスピンコータライン等の洗浄液として用いることにより、迅速で信頼性の高い洗浄を行うことが可能となる。

Claim (excerpt)：

フッ素原子を含む、アルコール類、エステル類、エーテル類およびフェノール類から選ばれる少なくとも一種を主成分とすることを特徴とするキノンジアジド系化合物の溶剤。

IPC (5)：

G03F 7/022 ,  C11D 7/28 ,  G03F 7/32 501 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特公平3-008532
  
• 特開平2-000804
  
• 特開昭64-050040
  
• 特開平3-106024