高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小島隆司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001150535
Publication number (International publication number)：2002338633
Application date： May. 21, 2001
Publication date： Nov. 27, 2002
Summary：

【要約】 (修正有)【解決手段】下記一般式(1)及び(2)で示される繰り返し単位と、酸性条件下で分解してカルボン酸を発生する単位を1種又は複数種含有することを特徴とする重量平均分子量1,000〜500,000の高分子化合物。(式中、Wは炭素数2〜15の2価の基を示し、結合する炭素原子とともに5員環又は6員環の環状エーテル、環状ケトン、ラクトン、環状カーボネート、環状酸無水物又は環状イミドのいずれかを形成する。Yは-O-又は-(NR1)-を示し、R1は水素原子又は炭素数1〜15の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。kは0又は1である。)【効果】高エネルギー線に感応し、感度、解像性、エッチング耐性に優れているため、電子線や遠紫外線による微細加工に有用である。

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)及び(2)で示される繰り返し単位と、酸性条件下で分解してカルボン酸を発生する単位を1種又は複数種含有することを特徴とする重量平均分子量1,000〜500,000の高分子化合物。【化1】(式中、Wは炭素数2〜15の2価の基を示し、結合する炭素原子とともに5員環又は6員環の環状エーテル、環状ケトン、ラクトン、環状カーボネート、環状酸無水物又は環状イミドのいずれかを形成する。Yは-O-又は-(NR1)-を示し、R1は水素原子又は炭素数1〜15の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。kは0又は1である。)

IPC (7)：

C08F222/06 , C08F220/10 , C08F222/10 , C08F222/40 , C08F232/08 , G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (7)：

C08F222/06 , C08F220/10 , C08F222/10 , C08F222/40 , C08F232/08 , G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

F-Term (65)：

2H025AA02 , 2H025AA09 , 2H025AA13 , 2H025AA14 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB10 , 2H025CB41 , 2H025CB43 , 2H025CB55 , 2H025CB56 , 2H025FA17 , 4J100AK32Q , 4J100AL08P , 4J100AL39P , 4J100AL46P , 4J100AL56P , 4J100AM43Q , 4J100AM45Q , 4J100AM47Q , 4J100AR09R , 4J100AR11R , 4J100BA02P , 4J100BA03P , 4J100BA04P , 4J100BA05P , 4J100BA06P , 4J100BA11P , 4J100BA11R , 4J100BA15P , 4J100BA20P , 4J100BA29P , 4J100BA30P , 4J100BA40P , 4J100BA52P , 4J100BA53P , 4J100BA55P , 4J100BA72P , 4J100BB01P , 4J100BB03P , 4J100BB07P , 4J100BC03Q , 4J100BC04P , 4J100BC04Q , 4J100BC04R , 4J100BC08P , 4J100BC09P , 4J100BC09Q , 4J100BC22P , 4J100BC43P , 4J100BC48P , 4J100BC49P , 4J100BC53R , 4J100BC58P , 4J100BC58R , 4J100BC65R , 4J100CA05 , 4J100DA01 , 4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-128516 Applicant：ジェイエスアール株式会社
新規なエステル化合物、高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-174945 Applicant：信越化学工業株式会社
レジスト材料及びパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-302909 Applicant：信越化学工業株式会社

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