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J-GLOBAL ID：200903060932567626

照射装置および水処理装置

Inventor： 垣谷 勉 ,  横関 一郎 ,  上村 幸三 ,  井上 昭浩 ,  吉川 和彦 ,  空閑 圭介 ,  米沢 昭弘
Applicant, Patent owner： 東芝ライテック株式会社
Agent (1)： 樺澤 襄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996178231
Publication number (International publication number)：1998021711
Application date： Jul. 08, 1996
Publication date： Jan. 23, 1998
Summary：

【要約】【課題】 無電極放電ランプ1から放射される紫外線を液体Wに対して有効に照射し、励起コイル3と整合回路4を近付けて回路効率および発光効率を向上させる。【解決手段】 発光管2、励起コイル3および整合回路4をそれぞれ水密に設けるとともに、整合回路4から給電線5を導出して無電極放電ランプ1を形成する。無電極放電ランプ1を処理しようとする液体W中に水没配置して使用する。発光管2から全ての方向に放射される紫外線を液体Wに対して有効に照射できる。励起コイル3と整合回路4を近接接続でき、回路効率および発光効率を向上できる。

Claim (excerpt)：

水密に設けられて水没配置される発光管と;水密に設けられて水没配置されるとともに、高周波電力の供給によって発光管を励起させる励起コイルと;水密に設けられて水没配置されるとともに、励起コイルに近接接続されてその励起コイルに対する高周波電力の整合をとる整合回路と;整合回路から導出され、整合回路を通じて励起コイルに高周波電力を供給する給電線と;を具備していることを特徴とする照射装置。

IPC (3)：

F21S 1/00 ,  C02F 1/30 ,  H01J 65/04

FI (3)：

F21S 1/00 M ,  C02F 1/30 ,  H01J 65/04 A