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J-GLOBAL ID：200903060966391586

ロジン系フラックス用洗浄剤

Inventor： 小尾 邦寿
Applicant, Patent owner： オリンパス光学工業株式会社
Agent (1)： 奈良 武
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993128265
Publication number (International publication number)：1994313195
Application date： Apr. 30, 1993
Publication date： Nov. 08, 1994
Summary：

【要約】【目的】 安全で臭いが少なく、水すすぎ性が良好なロジン系フラックス洗浄剤を提供する。【構成】 C6H5-O-(CH3CH2O)-H(nは1〜3の整数)で表せるポリオキシエチレンモノベンジルエーテルを70wt%以上含有して洗浄座とする。また、ポリオキシエチレンモノベンジルエーテル70wt%と、ピナン,パラ-メンタン,ジヒドロターピネオール,ジヒドロターピニルアセテート,イソボニルアセテートの単量体または二量体の群から選ばれる完全水素化テルペン数5〜30wt%を含有する洗浄剤とする。

Claim (excerpt)：

一般式C6 H5 -O-(CH3 CH2 O)n -H(nは1〜3の整数)で表わされるポリオキシエチレンモノベンジルエーテルを70重量%以上含有することを特徴とするロジン系フラックス用洗浄剤。

IPC (4)：

C11D 7/26 ZAB ,  C11D 7/60 ,  C11D 7:26 ,  C11D 7:24