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J-GLOBAL ID：200903061005443193

シルフェニレン骨格含有高分子化合物及び光硬化性樹脂組成物並びにパターン形成方法及び基板回路保護用皮膜

Inventor：
加藤 英人

About 加藤 英人

, 
淺井 聡

About 淺井 聡


Applicant, Patent owner：
信越化学工業株式会社

About 信越化学工業株式会社


Agent (4)： 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成 ,  石川 武史
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007021023
Publication number (International publication number)：2008184571
Application date： Jan. 31, 2007
Publication date： Aug. 14, 2008
Summary：
【解決手段】式(1)の繰り返し単位を有するMwが3,000〜500,000のシルフェニレン骨格含有高分子化合物。[R1〜R4は1価炭化水素基を示す。mは1〜100、aは正数、bは0又は正数、0.5≦a/(a+b)≦1.0、Xは脂肪族又は脂環族連結ジフェノール含有の二価の有機基。]【効果】高分子化合物を使用することにより幅広い波長領域の光で1μmに満たない薄膜から20μmを超えるような厚膜での幅広い膜厚に亘り、微細なパターン形成を行うことができる光硬化性樹脂組成物を製造することが可能となる。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
下記一般式(1)で示される繰り返し単位を有する重量平均分子量が3,000〜500,000のシルフェニレン骨格含有高分子化合物。
IPC (4)：
C08G 77/52 ,  G03F 7/038 ,  H01L 21/027 ,  C08G 77/60
FI (4)：
C08G77/52 ,  G03F7/038 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08G77/60
F-Term (42)：
2H025AA02 ,  2H025AA06 ,  2H025AA07 ,  2H025AA10 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025CB30 ,  2H025CB32 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA12 ,  2H025FA29 ,  4J246AA03 ,  4J246AA08 ,  4J246AA11 ,  4J246AB01 ,  4J246AB02 ,  4J246BA02X ,  4J246BA020 ,  4J246BB02X ,  4J246BB021 ,  4J246BB12X ,  4J246BB122 ,  4J246BB20X ,  4J246BB201 ,  4J246BB45X ,  4J246BB452 ,  4J246CA230 ,  4J246CA24X ,  4J246CA240 ,  4J246FA221 ,  4J246FA451 ,  4J246FC161 ,  4J246GC26 ,  4J246HA15 ,  4J246HA62 ,  4J246HA69
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (11)
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