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J-GLOBAL ID：200903061028225908
光ビーム作成方法、装置、それを用いた寸法測定方法、外観検査方法、高さ測定方法、露光方法および半導体集積回路装置の製造方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
筒井 大和
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991276011
Publication number (International publication number)：1993002152
Application date： Oct. 24, 1991
Publication date： Jan. 08, 1993
Summary：
【要約】【目的】 光の波長や対物レンズの特性などによる限界を超えた微細な光ビームを作成する技術を提供する。【構成】 光源1と対物レンズ5との間に二つの光透過領域を有するビーム分配シフタ4を配置すると共に、前記二つの光透過領域の一方に位相シフト手段を設け、前記ビーム分配シフタ4を透過した光を二つの光束L1,L2に分割すると共に、前記二つの光束L1,L2 の位相を互いに逆相とし、次いで前記二つの光束L1,L2 を対物レンズ5で収光することにより、光の波長や対物レンズ5の特性などによる限界を超えた微細な光ビームを作成する。
Claim (excerpt)：
光源から放射された光を対物レンズにより収光して光ビームを作成する際、前記光源から放射された光を二つの光束に分割すると共に、一方の光束の位相を反転させ、次いで前記二つの光束を前記対物レンズにより収光することを特徴とする光ビーム作成方法。
IPC (4)：
G02B 27/58
, G01N 21/88
, G02B 21/00
, H01L 21/027
Cited by examiner (6)
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