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J-GLOBAL ID：200903061045205821

窒素酸化物・硫黄酸化物の浄化方法及び浄化装置

Inventor： 山本 俊昭 ,  楊 禎禄 ,  水野 彰
Applicant, Patent owner： 株式会社三電舎 ,  山本 俊昭 ,  楊 禎禄 ,  水野 彰
Agent (1)： 森 正澄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999219909
Publication number (International publication number)：2000117049
Application date： Aug. 03, 1999
Publication date： Apr. 25, 2000
Summary：

【要約】【課題】 環境中における窒素酸化物・硫黄酸化物を効率よく、かつ、低コストで除去し、副生成物の発生を抑制することの可能な、窒素酸化物・硫黄酸化物の浄化方法及び浄化装置を提供することを目的とする。【解決手段】 排ガス中に含まれる窒素酸化物・硫黄酸化物の浄化方法及び浄化装置において、排ガスに大気圧低温非平衡プラズマを生成する乾式の工程を備え、低温非平衡プラズマの生成によって、ガス中のNOが酸化されてNO2が最大値となる値を基準値として印加電圧を設定し、ガス中に含まれるNOを効率的にNO2に酸化させた後、排ガスを還元剤溶液と反応させる湿式の工程を備え、排ガス中の窒素酸化物・硫黄酸化物を除去する窒素酸化物・硫黄酸化物の浄化方法及び浄化装置である。

Claim (excerpt)：

排ガス中に含まれる窒素酸化物を除去する窒素酸化物の浄化方法において、前記浄化方法は、排ガスに大気圧低温非平衡プラズマを生成して窒素酸化物を除去するものであって、前記大気圧低温非平衡プラズマの生成によってガス中のNOが酸化されてNO2が最大値となる値を基準値として、前記大気圧低温非平衡プラズマを生成する印加電圧を設定することを特徴とする窒素酸化物の浄化方法。

IPC (4)：

B01D 53/56 ,  B01D 53/74 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/77

FI (3)：

B01D 53/34 129 C ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 130 C

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 低濃度NO含有ガスの脱硝方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-013501   Applicant：三菱重工業株式会社, 高菱エンジニアリング株式会社
• 特開昭51-015158
  
• 特開昭48-006974