Pat
J-GLOBAL ID:200903061047552065

光酸発生剤のブレンドを含むフォトレジスト組成物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 千田 稔 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000042690
Publication number (International publication number):2000241965
Application date: Feb. 21, 2000
Publication date: Sep. 08, 2000
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】樹脂バインダーおよび光酸発生剤のブレンドを含む新しいフォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】樹脂バインダーおよび、組成物の露光されたコーティング層を現像することができるのに十分な量の光酸発生化合物の混合物を含み、該光酸発生化合物の混合物は、第1の光酸発生剤および第2の光酸発生剤を含み、第1および第2の光酸発生剤は、光活性化されると、少なくとも約0.5だけpKa値が異なる第1の光酸および第2の光酸をそれぞれ発生するフォトレジスト組成物。
Claim (excerpt):
樹脂バインダーおよび、組成物の露光されたコーティング層を現像することができるのに十分な量の光酸発生化合物の混合物を含み、該光酸発生化合物の混合物は、第1の光酸発生剤および第2の光酸発生剤を含み、第1および第2の光酸発生剤は、光活性化されると、少なくとも約0.5だけpKa値が異なる第1の光酸および第2の光酸をそれぞれ発生するフォトレジスト組成物。
IPC (3):
G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (3):
G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
Show all

Return to Previous Page