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J-GLOBAL ID：200903061055616803

マスク保護用ペリクル

Inventor： 千葉 正彦
Applicant, Patent owner： 日本プレシジョン・サーキッツ株式会社
Agent (1)： 松田 和子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993061950
Publication number (International publication number)：1994273922
Application date： Mar. 22, 1993
Publication date： Sep. 30, 1994
Summary：

【要約】【目的】 ペリクル外部の気圧の変動によってペリクル膜が凸状態となることを防止し、信頼性の高いマスク保護用ペリクルを提供することである。【構成】 ペリクルフレーム11に孔14を形成し、前記ペリクルフレーム11の孔14に対応して弁15を設ける。

Claim (excerpt)：

ペリクルフレームに孔を形成し、前記ペリクルフレームの孔に対応して弁を設けたことを特徴とするマスク保護用ペリクル。

IPC (2)：

G03F 1/14 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開平2-168953