Pat
J-GLOBAL ID：200903061068898204
MgO単結晶基板の表面処理方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
森 道雄 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996127282
Publication number (International publication number)：1997309799
Application date： May. 22, 1996
Publication date： Dec. 02, 1997
Summary：
【要約】【課題】高周波デバイス等の酸化物薄膜の作製に用いられる平坦性と清浄性の高い大面積のMgO単結晶基板の表面処理方法の提供。【解決手段】MgO単結晶基板の表面を、pH:4〜6の無機酸水溶液と接触させる処理を含む酸化物薄膜成膜用のMgO単結晶基板の表面処理方法。
Claim (excerpt)：
MgO単結晶基板を、pH:4〜6の無機酸水溶液と接触させる処理を含むことを特徴とする酸化物薄膜成膜用のMgO単結晶基板の表面処理方法。
IPC (9)：
C30B 33/10
, C01G 1/00
, C01G 3/00 ZAA
, C04B 35/00 ZAA
, C04B 41/91
, C30B 29/16
, C30B 29/22 501
, H01L 39/02 ZAA
, H01L 39/24 ZAA
C30B 33/10
, C01G 1/00 S
, C01G 3/00 ZAA
, C04B 41/91 B
, C30B 29/16
, C30B 29/22 501 K
, H01L 39/02 ZAA W
, H01L 39/24 ZAA B
, C04B 35/00 ZAA
