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J-GLOBAL ID:200903061077587076

光学素子及び光学素子の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 河野 登夫 ,  河野 英仁
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002181885
Publication number (International publication number):2004029153
Application date: Jun. 21, 2002
Publication date: Jan. 29, 2004
Summary:
【課題】短時間かつ低コストで作製することができる光学素子及び光学素子の製造方法を提供する。【解決手段】アルミニウム等の金属を含有し、マイクロ波(3×108 Hz〜3×1012Hz)又は赤外線(3×1011 Hz〜4×1014Hz)領域の電磁波を反射するインクを用いて、電磁波を透過させる紙等の基体12に、熱転写プリンタ,インクジェットプリンタ,昇華型プリンタ,レーザプリンタ,ドットプリンタ等のプリンタで反射部14を印刷し、電磁波を透過する透過部と電磁波を反射する反射部とが周期的に形成された光学素子10を製造する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
電磁波を透過させる基体に、電磁波を反射する反射部が形成された光学素子において、 反射部は、電磁波を反射するインクで基体に印刷されていることを特徴とする光学素子。
IPC (2):
G02B5/30 ,  G02B5/26
FI (2):
G02B5/30 ,  G02B5/26
F-Term (7):
2H048FA05 ,  2H048FA07 ,  2H048FA12 ,  2H049BA02 ,  2H049BA45 ,  2H049BC23 ,  2H049BC25

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