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J-GLOBAL ID：200903061129725111

浄水処理装置

Inventor： 丹保 憲仁 ,  小澤 源三 ,  鈴木 辰彦
Applicant, Patent owner： 丹保 憲仁 ,  前澤工業株式会社
Agent (1)： 志賀 正武 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994014722
Publication number (International publication number)：1995214047
Application date： Feb. 08, 1994
Publication date： Aug. 15, 1995
Summary：

【要約】【目的】 小さなスペースでも高い浄水処理能力を得ることができるとともに、処理時間の短縮が可能であり、さらに有機物成分の多い処理原水に対しても効果的にフロックの除去を行ない得る浄水処理装置を提供する。【構成】 加圧水と混合された処理原水が導入される浮上処理槽3と、この浮上処理槽3に浮上するフロックFを取り出す回収装置4とを備えた浮上処理装置1と、この浮上処理装置1によりフロックFが除去された処理原水を膜モジュール21によって濾過する膜濾過装置2とを具備し、この膜モジュール21が浮上処理槽3内に配置されている。膜モジュール21は、処理原水の導入口13よりも下方に配置され、中空糸膜をU字状に束ねて成るU字型モジュールである。また浮上処理槽3内には、案内板16、傾斜板31、エアレータ32が設けられている。

Claim (excerpt)：

処理原水に加圧水を混入して処理原水中のフロックを浮上処理槽内で浮上させる浮上処理装置と、この浮上処理装置によりフロックが浮上分離された処理原水を膜モジュールにより濾過する膜濾過装置とを具備して成り、上記膜モジュールが上記浮上処理槽内に配置されていることを特徴とする浄水処理装置。

IPC (2)：

C02F 1/24 ,  C02F 1/44

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭55-137081
  
• 下水の高度処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-324046   Applicant：東京都