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J-GLOBAL ID：200903061138451652

レーザリペア装置とフォトマスクの修正方法

Inventor：
上田 淳

About 上田 淳


Applicant, Patent owner：
日本電気株式会社

About 日本電気株式会社


Agent (1)： 畑 泰之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999156542
Publication number (International publication number)：2000347385
Application date： Jun. 03, 1999
Publication date： Dec. 15, 2000
Summary：
【要約】【課題】 精度良い修正が可能になり、しかも、修正部エッジの盛り上がりやデブリス等の発生を低減させるフォトマスクの修正方法を提供する。【解決手段】 欠陥部分12に照射するレーザ光の照射位置を第1の位置21に設定して第1のレーザパワーで欠陥部分12にレーザ光を照射する第1の工程と、第1の位置21に対してずらした第2の位置22に、第1のレーザパワーよりも弱い第2のレーザパワーのレーザ光を照射する第2の工程とで、マスクパターンの欠陥部分12を修正することを特徴とする。
Claim (excerpt)：
レーザ光を用いてマスクパターンの欠陥部分を修正するマスクパターンの修正方法であって、前記欠陥部分に照射するレーザ光の照射位置を第1の位置に設定して第1のレーザパワーで前記欠陥部分にレーザ光を照射する第1の工程と、前記第1の位置に対してずらした第2の位置に、前記第1のレーザパワーよりも弱い第2のレーザパワーのレーザ光を照射する第2の工程とで、前記マスクパターンの欠陥部分を修正することを特徴とするフォトマスクの修正方法。
IPC (4)：
G03F 1/08 ,  B23K 26/00 ,  B23K 26/06 ,  H01L 21/027
FI (6)：
G03F 1/08 V ,  B23K 26/00 C ,  B23K 26/00 N ,  B23K 26/00 G ,  B23K 26/06 Z ,  H01L 21/30 502 W
F-Term (10)：
2H095BB32 ,  2H095BB33 ,  2H095BB34 ,  2H095BD32 ,  2H095BD34 ,  4E068AC00 ,  4E068CA01 ,  4E068CD10 ,  4E068CD13 ,  4E068DA00
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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