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J-GLOBAL ID:200903061140526732

ドライブ回路TFTの製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 杉村 次郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993342109
Publication number (International publication number):1995169971
Application date: Dec. 14, 1993
Publication date: Jul. 04, 1995
Summary:
【要約】【目的】 信号線ドライブ回路TFTを形成するためのポリシリコン薄膜の結晶粒の大きさを均一化する。【構成】 ガラス基板1上に形成されたアモルファスシリコン薄膜4のうち信号線ドライブ回路TFT形成領域7を、レーザビーム形状をこの領域7に対して平行に延びる帯状とされたエキシマレーザビーム(9)で照射する。すると、信号線ドライブ回路TFT形成領域7におけるアモルファスシリコン薄膜4を信号線ドライブ回路TFT形成領域7の長手方向に重複照射することなく結晶化することができる。
Claim (excerpt):
基板上にドライブ回路TFTを形成する際、レーザビームの形状をドライブ回路TFT形成領域の長手方向に対してこれよりも長い帯状とし、該レーザビームをドライブ回路TFT形成領域の長手方向と直交する方向にスキャン照射することにより、前記基板上に形成されたアモルファスシリコン薄膜を結晶化してポリシリコン薄膜とし、該ポリシリコン薄膜を活性層とする複数のTFTからなるドライブ回路TFTを形成する、ことを特徴とするドライブ回路TFTの製造方法。
IPC (6):
H01L 29/786 ,  G02F 1/136 500 ,  H01L 21/20 ,  H01L 21/268 ,  H01L 27/12 ,  H01L 21/336
FI (2):
H01L 29/78 311 A ,  H01L 29/78 311 Y
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • マトリクス回路駆動装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平3-334597   Applicant:カシオ計算機株式会社
  • 特開平3-286518

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