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J-GLOBAL ID：200903061147787701

シリコンウエハ洗浄装置

Inventor： 田辺 円
Applicant, Patent owner： オルガノ株式会社
Agent (1)： 若林 忠
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996054565
Publication number (International publication number)：1997246227
Application date： Mar. 12, 1996
Publication date： Sep. 19, 1997
Summary：

【要約】【課題】 排出されるフッ酸廃液を減少させ、廃液処理に要するコスト負担を低減させると共に、環境保護に寄与するシリコンウエハ洗浄装置を提供する。【解決手段】 洗浄槽2内の希フッ酸の上昇流中でシリコンウエハ18を洗浄する。希フッ酸はオーバーフローして集水部16に集められた後、紫外線酸化装置26で有機物が酸化分解され、陰イオン交換樹脂を充填したカラム22でケイ酸が除去され、膜処理装置24で濾過された後、洗浄槽2内に返送される。

Claim (excerpt)：

少なくとも希フッ酸を含む薬液を内部に収容すると共に前記薬液によってシリコンウエハ表面を洗浄するシリコンウエハの洗浄槽と、イオン交換樹脂を充填した薬液精製カラムを介装してなり前記薬液を前記洗浄槽外部に取り出すと共に薬液精製カラムを通過させることにより精製して前記洗浄槽に返送する薬液循環配管とを備えてなることを特徴とするシリコンウエハ洗浄装置。

IPC (2)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304

FI (3)：

H01L 21/304 341 T ,  H01L 21/304 341 S ,  H01L 21/304 341 Z