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J-GLOBAL ID：200903061150505580

改良されたレーザー融蝕性材料

Inventor： ジャナイ,メイヤー ,  カスト,ヨラム ,  シルバースティン,マイケル・スティーブン ,  ゼハヴィ,シャロン
Applicant, Patent owner： チップ・エキスプレス・コーポレーション
Agent (1)： 社本 一夫 (外5名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1996526446
Publication number (International publication number)：1999502060
Application date： Feb. 27, 1996
Publication date： Feb. 16, 1999
Summary：

【要約】本発明は、可視光線レーザー放射によって融蝕可能なプラズマ蒸着ポリマー(PDP)の層で集積回路(3)を被覆する方法を開示する。

Claim (excerpt)：

可視光線レーザー放射によって融蝕可能なプラズマ蒸着ポリマー(PDP)層で被覆された集積回路。

IPC (4)：

H01L 21/312 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/302 ,  H01L 21/768

FI (4)：

H01L 21/312 D ,  H01L 21/203 Z ,  H01L 21/302 Z ,  H01L 21/90 S