Pat
J-GLOBAL ID：200903061151987120
基板保持具及び洗浄装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
,
Agent (1)：
井上 俊夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995019820
Publication number (International publication number)：1996195431
Application date： Jan. 12, 1995
Publication date： Jul. 30, 1996
Summary：
【要約】【目的】 円形状の基板例えばウエハの左右の揺れ及び傾き(倒れ)を抑えて安定した姿勢でウエハを保持することができる基板保持具、及び液の表面張力によるウエハ同士の吸着現象を防止できる洗浄装置の提供。【構成】 ウエハWを3点で支持するように保持棒31〜33に夫々第1〜第3の保持溝4〜6を形成する。第1の保持溝4はウエハWの下端より右上近傍を保持するよう、また第2の保持溝5はウエハWの左端の右下近傍を保持するように夫々配置され、これらでウエハWの左右揺れを防ぎ、更に第3の保持溝はウエハWの右端上方に位置して支持長を稼ぎ、これによりウエハWの傾きを防いでいる。
Claim (excerpt)：
複数の円形状の基板を各々縦向きで並列に保持するための基板保持具において、基板の周方向に沿って配列され、夫々基板の周縁部を保持する第1の保持溝、第2の保持溝及び第3の保持溝を有し、前記第1の保持溝は、基板の下端と基板の左右方向の端部との間を保持するように配置され、前記第2の保持溝は、基板の中心と下端とを結ぶ線に対して第1の保持溝とは反対側において、基板の左右方向の端部と前記第1の保持溝との間の高さ位置に配置され、前記第3の保持溝は、基板の中心と下端とを結ぶ線に対して第1の保持溝と同じ側において、基板の左右方向の端部よりも高い位置を保持するように配置されたことを特徴とする基板保持具。
IPC (3)：
H01L 21/68
, B08B 11/02
, H01L 21/304 341
