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J-GLOBAL ID：200903061156122470

高度水処理装置

Inventor： 森 利克 ,  陰山 晃治 ,  相馬 憲一 ,  小松 直人
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997026304
Publication number (International publication number)：1998216752
Application date： Feb. 10, 1997
Publication date： Aug. 18, 1998
Summary：

【要約】【課題】オゾンによる水処理反応を加速できるオゾン処理装置を提供する。【解決手段】触媒の集合体或いは触媒を担持した支持体を反応器7内に設置して強制的に動かしながらオゾン処理対象水と接触させる。【効果】従来の固定床,懸濁床よりも大きい速度で処理されるので、反応器及び処理装置が小型化,簡単になり、設備費,運転費が低減される。

Claim (excerpt)：

被処理水とオゾン含有ガスとを接触させる反応器と該反応器内にオゾン含有ガスを吸き込むオゾン吸き込み手段とを有する高度水処理装置において、前記反応器内に触媒の集合体或いは触媒を担持した支持体のいずれかからなる触媒構造体を設置し、被処理水のオゾンによる処理中に被処理水と触媒との接触点を常に移動させるように該被処理水と該触媒構造体の少なくとも一方を動かす手段を設けたことを特徴とする高度水処理装置。

IPC (4)：

C02F 1/78 ZAB ,  B01J 35/02 ,  C02F 1/30 ,  C02F 1/72 101

FI (4)：

C02F 1/78 ZAB ,  B01J 35/02 J ,  C02F 1/30 ,  C02F 1/72 101