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J-GLOBAL ID：200903061166718923

シワ隠し用化粧料

Inventor： 原川 正司
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994212545
Publication number (International publication number)：1996073317
Application date： Sep. 06, 1994
Publication date： Mar. 19, 1996
Summary：

【要約】【構成】 粒径30μm以下の粒子が90重量%以上存在し、且つ平均粒径が3〜20μm以下である架橋球状ポリスチレンに平均の厚みが0.1μm〜2μm、平均の大きさが1〜30μmで、アスペクト比(平均直径÷平均厚み)が5〜40で、酸化珪素を95.0%以上含有し、且つBET比表面積が30m2 /g〜0.1m2 /gである薄片状酸化珪素を含むことを特徴とするシワ隠し用化粧料。【効果】 シワ、毛穴、キメの荒さ等の皮膚の凸凹があっても明度差を生じにくく、皮膚の形態トラブルを隠蔽する優れた効果を有する。

Claim (excerpt)：

粒径30μm以下の粒子が90重量%以上存在し、且つ平均粒径が3〜20μm以下である架橋球状ポリスチレンを含有してなるシワ隠し用化粧料。

IPC (2)：

A61K 7/02 ,  A61K 7/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭59-172408
  
• 鱗片状のシリカを配合した化粧料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-238751   Applicant：日本板硝子株式会社
• 化粧料組成物及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-043921   Applicant：ロレアル