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J-GLOBAL ID：200903061177753518
酸化亜鉛系透明導電膜及びその作製法並びにそれに使用するスパッタリングターゲット
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
倉内 基弘 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993101855
Publication number (International publication number)：1994293956
Application date： Apr. 06, 1993
Publication date： Oct. 21, 1994
Summary：
【要約】【目的】 低抵抗で且つ近赤外領域での透過率が良い酸化亜鉛系透明導電膜技術の開発。【構成】 0.1〜10at%アルミニウム及び0.1〜10at%硼素を同時にドープした酸化亜鉛から成るスパッタリングターゲットを使用してスパッタ法により基材上にZnO:Al,B透明導電膜を形成する。ZnO:Al,B透明導電膜はZnO:Al透明導電膜と同様低抵抗であり、しかも400〜1000nmの波長領域において80%水準の良好な透過率を有する。太陽電池窓材及び電極として有用である。ターゲットは亜鉛、アルミニウム及び硼素の酸化物等の化合物粉末を混合し、成形及び焼結により作製する。
Claim (excerpt)：
0.1〜10at%アルミニウム及び0.1〜10at%硼素をドープした酸化亜鉛から成る透明導電膜。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (10)
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