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J-GLOBAL ID:200903061225835009
水素発生装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (1):
大川 宏
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992189591
Publication number (International publication number):1994033283
Application date: Jul. 16, 1992
Publication date: Feb. 08, 1994
Summary:
【要約】【目的】 酸素ガスの圧力の影響による水の供給不足を解消し、水素ガス発生性能が劣化したないようにした水素発生装置の提供を目的とする。【構成】 プロトン伝導膜21による水電解セルの単体又は複数セルの積層体を水タンク38内に水没させ、酸素発生室を水タンクの水室と連通させる一方、水素発生室を形成する水素側隔壁に該水素発生室から発生した水素を導出する水素導出路21H 〜35H を形成した水素発生装置。
Claim (excerpt):
水室を形成する水タンクと、該水タンク内に配置され、プロトン伝導膜と、該プロトン伝導膜の一面側に酸素発生室を形成するとともに該水室と連通する連通孔をもつ酸素側隔壁と、該プロトン伝導膜の他面側に水素発生室を形成する水素側隔壁と該水素発生室から発生した水素を導出する水素導出路とを具備することを特徴とする水素発生装置。
IPC (4):
C25B 9/00 302
, C25B 1/06
, C25B 11/20
, C25B 15/08 302
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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