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J-GLOBAL ID:200903061229638526
半導体ウェーハ剥し装置および半導体ウェーハの製造方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
田中 秀晴
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001176481
Publication number (International publication number):2002064073
Application date: Nov. 18, 1994
Publication date: Feb. 28, 2002
Summary:
【要約】【課題】 研磨完了後のウェーハを、ウェーハ貼付プレートから剥離し、ウェーハ収納用キャリアへの装填に至る一連の作業を無人化する。【解決手段】 プレート搬送ローラー2と、プレート受入れステージ3a、ウェーハ位置決めステージ3b、ウェーハ剥離ステージ3c及びプレート排出ステージ3dの4つに区分され、プレート移載装置3と、ウェーハの貼付位置を検出するレーザー変位計7と、ウェーハ剥離ロボット4と、ウェーハ剥離ステージ3cで貼付プレート1から剥離されたウェーハ10をウェーハ収納用キャリアローダー6まで搬送するウェーハ搬送機構5と、ウェーハ10剥離後の貼付プレート1を装置外に搬出するプレート搬出ローラー11とから構成した。
Claim (excerpt):
少なくともウェーハ位置決めステージからウェーハ剥離ステージへ、半導体ウェーハを貼付した貼付プレートを支持して移動させるプレート移載装置と、前記ウェーハ位置決めステージに設けられ、前記プレート移載装置に支持された前記貼付プレート上のウェーハの貼付位置を検出するセンサーと、前記ウェーハ剥離ステージに設けられ、ウェーハと貼付プレートの隙間に挿入可能に形成された爪を備えたウェーハ剥離装置と、前記貼付プレートから剥離されたウェーハを搬送するウェーハ搬送機構と、ウェーハ剥離後の貼付プレートを前記プレート移載装置から搬出するプレート搬出機構とを有することを特徴とする半導体ウェーハ剥し装置。
IPC (3):
H01L 21/304 622
, B24B 37/04
, H01L 21/68
FI (4):
H01L 21/304 622 L
, B24B 37/04 Z
, H01L 21/68 C
, H01L 21/68 N
F-Term (19):
3C058AA07
, 3C058AB03
, 3C058AB04
, 3C058CB03
, 3C058DA17
, 5F031CA02
, 5F031DA15
, 5F031FA01
, 5F031FA07
, 5F031FA11
, 5F031FA12
, 5F031GA28
, 5F031GA51
, 5F031HA59
, 5F031HA60
, 5F031JA05
, 5F031JA22
, 5F031MA22
, 5F031MA38
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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ウエーハ剥がし装置の制御装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-087883
Applicant:コマツ電子金属株式会社
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ウエハー載置方法および載置装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-154350
Applicant:不二越機械工業株式会社
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特開昭63-093537
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特開昭61-241060
-
特開平4-334024
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