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J-GLOBAL ID:200903061246863568

半導体基板処理システム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 佐藤 一雄 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992158306
Publication number (International publication number):1994005689
Application date: Jun. 17, 1992
Publication date: Jan. 14, 1994
Summary:
【要約】【目的】 処理内容や処理順序を任意に設定することができ、簡単な作業で条件出しを行うことができ且つ安価な半導体基板処理システムを提供する。【構成】 半導体ウエハ処理システムを、複数の半導体ウエハを収納する収納装置11,17と、半導体ウエハを処理する複数の処理装置12〜16と、この処理装置12〜16の外部に設けられた、収納装置11,17または処理装置12〜16から搬出した半導体ウエハを保持したまま移動して他の前記収納装置11,17または処理装置12〜16内に搬入する搬送装置18と、収納装置11,17に収納された半導体ウエハの1枚または複数枚ごとに搬送装置18が半導体ウエハを搬入・搬出する処理装置の種類とその順序およびこれらの処理装置の処理条件を制御情報として記憶するサブメモリ19cと、この制御情報に基づいて各装置12〜16,18を制御する制御部19aとによって構成する。
Claim (excerpt):
複数の半導体基板を収納する収納容器と、前記半導体基板を処理する複数の処理装置と、この処理装置の外部に設けられた、前記収納容器または前記処理装置から搬出した前記半導体ウェーハを保持したまま移動して他の前記収納容器または前記処理装置内に搬入する搬送装置と、前記収納容器に収納された前記半導体基板の1枚または複数枚ごとに、前記搬送装置が前記半導体基板を搬入・搬出する前記処理装置の種類とその順序およびこれらの処理装置の処理条件を、制御情報として記憶する記憶部と、この記憶部に記憶された前記制御情報に基いて前記処理装置および前記搬送装置の制御を行う制御部と、を具備する半導体基板処理システム。
IPC (3):
H01L 21/68 ,  H01L 21/02 ,  H01L 21/027

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