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J-GLOBAL ID：200903061258569916
マスクの検査方法および装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
井桁 貞一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992017974
Publication number (International publication number)：1993216211
Application date： Feb. 04, 1992
Publication date： Aug. 27, 1993
Summary：
【要約】【目的】 位相シフトレチクルの欠陥検査に関し,シフタの欠陥検査を可能とすることを目的とする。【構成】 1)位相シフタ3を有するマスク12に入射光ビーム5を照射し,該入射光ビームが該マスクを透過した透過光ビームと,該入射光と同位相の参照光ビーム6とを合成して干渉波を形成し, 該マスクを走査して該入射光ビームが該位相シフタを照射したときの該干渉波強度の低減の程度により該位相シフタの欠陥を検出する,2)マスク12を載置してXY方向に移動可能なステージ11と,該マスクに入射光ビームを照射する入射光光学系14と,該入射光と同位相の参照光ビームを照射する参照光光学系15と,該入射光ビームが該マスクを透過した透過光ビームと該参照光ビームとを合成して干渉波を形成する光学素子16と,該干渉波を検出する受光素子17とを有するように構成する。
Claim (excerpt)：
位相シフタ(3)を有するマスク(12)に入射光ビーム(5) を照射し,該入射光ビームが該マスクを透過した透過光ビームと,該入射光と同位相の参照光ビーム(6) とを合成して干渉波を形成し, 該マスクを走査して該入射光ビームが該位相シフタを照射したときの該干渉波強度の低減の程度により該位相シフタの欠陥を検出することを特徴とするマスクの検査方法。
IPC (2)：
FI (3)：
H01L 21/30 301 V
, H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 W
